本报北京8月4日电 （记者余荣华）集成电路领域的高端装备国产化进程又进一步。记者今天从清华控股有限公司获悉：由清华大学科技成果成功转化的国内首台12英寸化学机械抛光机近日交付使用凯时国际网站首页凯时国际网...
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5月18日，华海清科开始招股凯时国际网站首页凯时国际网站首页，作为国内唯一的为集成电路制造商提供12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商，公司技术实力强劲凯时国际网站首页凯时国际网站首页，自成立以来始终坚...
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化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术被誉为是当今时代能实现集成电路（IC）制造中晶圆表面全局平坦化的目前唯一技术，化学机械抛光的效果直接影响到芯片最终的质量和成品率。CMP系统主要由抛光设...
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为实现碳化硅晶片的高效低损伤抛光，提高碳化硅抛光的成品率，降低加工成本，对现有的碳化硅化学抛光 技术进行了总结和研究。针对碳化硅典型的晶型结构及其微观晶格结构特点，简述了化学机械抛光技术对碳化硅材料 去...
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【下载】Level Set Evolution Without Re-initialization一文的matlab实现 【设计】带电荷泵的STP4CMP低压4通道恒流LED驱动器典型应用电路 【设计】STEVAL-TLL012V1，使用基于 STP4CMP 电荷泵的 4 通道 LED 驱动器的...
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