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华海清科今日招股 国内唯一量产12英寸化学机械抛光(CMP)设备制

文章出处:未知 │ 网站编辑:admin │ 发表时间:2024-02-29

  5月18日,华海清科开始招股凯时国际网站首页凯时国际网站首页,作为国内唯一的为集成电路制造商提供12英寸CMP商业机型的高端半导体设备制造商,公司技术实力强劲凯时国际网站首页凯时国际网站首页,自成立以来始终坚持自主创新的发展路线凯时国际网站首页,在CMP设备核心关键技术层面取得了有效突破和系统布局。

  援引公开信息可知,CMP设备技术研发难度大、市场进入门槛高凯时国际网站首页,因此全球半导体化学机械抛光设备市场高度集中。多年来凯时国际网站首页凯时国际网站首页,华海清科坚持核心技术自主研发,通过持续的研发投入和关键技术自主攻关,形成了纳米级抛光、纳米颗粒超洁净清洗、纳米精度膜厚在线检测等数十项关键核心技术凯时国际网站首页,解决了集成电路制造纳米尺度“抛得光”、晶圆全局“抛得平”、纳米厚度“停得准”、纳米颗粒“洗得净”等关键难题凯时国际网站首页,使得CMP设备达到国内领先、国际先进的技术水平凯时国际网站首页。

  按照中国国际招标网上公布的采取公开招标的CMP设备采购项目中标结果,2019年至2021年期间华海清科CMP设备中标占比分别为21.05%、40.24%和44.26%凯时国际网站首页,代表着华海清科在国内CMP设备市场占有率不断提升。随着芯片制造技术发展和芯片集成度增加,CMP工艺在集成电路生产流程中的应用次数逐步增加凯时国际网站首页凯时国际网站首页凯时国际网站首页凯时国际网站首页,以逻辑芯片为例,65nm制程芯片需经历约12道CMP步骤,而7nm制程所需的CMP处理增加为30多道,CMP设备的重要性和在产业链条中的投资占比也逐步增加,市场前景广阔。

  华海清科先后承担、联合承担了两项“国家科技重大专项(02专项)”及三项国家级重大项目/课题,进行先进制程的铜CMP系统及工艺凯时国际网站首页、先进制程的钨CMP系统及工艺等技术或配套工艺开发和超精密减薄技术开发,并且已将现有研发成果应用于相关产品或在研产品中凯时国际网站首页。根据公开资料显示凯时国际网站首页,华海清科的CMP设备在设备产出速率、机台稳定运行时间、片内均匀性、片间均匀性等指标中均达到国际同类设备先进水平凯时国际网站首页。

  通过针对集成电路制造先进制程产业化应用的持续研发创新,华海清科CMP设备在逻辑芯片制造凯时国际网站首页凯时国际网站首页、3DNAND制造、DRAM制造等领域的工艺技术水平已分别突破至14nm、128层、1X/1Ynm凯时国际网站首页,均为当前国内大生产线的最高水平和全球集成电路产业的先进水平凯时国际网站首页。

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